1 Stück Silizium-Wafer mit hohem Widerstand – beidseitig poliert, R > 5000 Ω – anpassbare Lösungen verfügbar(Ф25.4x10mm)
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Produktbeschreibung
Hochwertige hochohmige Silizium-Wafer mit einem spezifischen Widerstand von über 5000 Ω for fortschrittliche Halbleiteranwendungen. Doppelseitiges Polieren gewährleistet eine gleichmäßige Dicke und eine hervorragende Oberfläche, ideal for elektronische Geräte. Zur Erfüllung spezifischer Projektanforderungen stehen anpassbare Optionen zur Verfügung, die maßgeschneiderte Lösungen for Ihre Anforderungen bieten. Perfekt for Forschung und Entwicklung in der Halbleitertechnologie, Elektronik und Photonikindustrie. Zuverlässig und konsistent, unterstützt durch strenge Test- und Sicherungsprozesse, um optimale Leistung zu gewährleisten.
Produktvarianten, Größen und Optionen
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