1 Stück anpassbarer Silizium-Wafer mit hohem Widerstand – doppelseitiges Polieren – R>5000Ω for fortgeschrittene Anwendungen(Ф25.4x5mm)
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Produktbeschreibung
Hochwertiger hochohmiger Siliziumwafer mit einem spezifischen Widerstand von über 5000 Ω, ideal for fortschrittliche elektronische Anwendungen. Das beidseitige Polieren gewährleistet eine hervorragende Oberfläche und Gleichmäßigkeit for optimale Leistung bei der Halbleiterherstellung. Anpassbare Optionen zur Erfüllung spezifischer Projektanforderungen verfügbar; kontaktieren Sie uns for maßgeschneiderte Lösungen. Perfekt for Forschung und Entwicklung in der Elektronik, Photonik und anderen Hightech-Branchen. Zuverlässiges und langlebiges Material zur Verbesserung der Effizienz elektronischer Komponenten und Geräte.
Produktvarianten, Größen und Optionen
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