Hochohmiger Siliziumwafer – beidseitig poliert, R>5000Ω – anpassbare Lösungen verfügbar, 1 Stück(Ф50.8x3mm)
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Produktbeschreibung
Hochwertiger hochohmiger Siliziumwafer mit einem spezifischen Widerstand von über 5000 Ω for überragende Leistung in elektronischen Anwendungen. Durch beidseitiges Polieren wird eine glatte und gleichmäßige Oberfläche gewährleistet, wodurch die Wirksamkeit des Wafers in verschiedenen Halbleiterprozessen verbessert wird. Zur Erfüllung spezifischer Projektanforderungen stehen anpassbare Optionen zur Verfügung, die maßgeschneiderte Lösungen for Ihre speziellen Anwendungen bieten. Ideal for den Einsatz in fortschrittlichen elektronischen Geräten, Photonik- und Mikroelektronikanwendungen, bei denen ein hoher spezifischer Widerstand entscheidend ist. Unsere zuverlässigen und langlebigen Siliziumwafer erfüllen die höchsten Industriestandards hinsichtlich Qualität und Leistung.
Produktvarianten, Größen und Optionen
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